紫外線應(yīng)用設(shè)備
?TOC分解設(shè)備
紫外氧化設(shè)備主要應(yīng)用于超純水生產(chǎn)設(shè)備。為了在近年來小型化的半導(dǎo)體、晶圓、液晶面板等的生產(chǎn)中保持高成品率，盡可能去除水中TOC（有機物）等雜質(zhì)的超純水） 是必須的。
紫外線氧化器是后期與離子交換樹脂一起生產(chǎn)超純水不可缺少的設(shè)備，在許多電子廠都有使用。
■ 代表性分子的化學(xué)鍵能
■ 主波長能量
■ 分解公式
FOV 系列（垂直）
這是一種通過高功率、低壓水銀燈產(chǎn)生的真空紫外線（184.9nm）高效照射，使水中的有機物氧化分解的裝置。適用于降低ppb級TOC。
*我們將根據(jù)安裝空間、處理量和所需的 TOC 濃度來選擇型號。
近年來，臭氧水因其強氧化力而被廣泛用作半導(dǎo)體廠和LCD廠的清洗用水。但是，使用后的有毒臭氧水即使?jié)舛群艿鸵矊θ梭w有害，而且會導(dǎo)致配管內(nèi)的填料劣化等給設(shè)施帶來沉重的負擔，因此需要盡快進行分解。OR系列可在短時間內(nèi)將高濃度臭氧水分解至1ppm以下。它還可以有效降低運行成本和維護頻率。
■使用示例
可用作活性炭吸附的替代品。
也可處理高濃度、大流量的設(shè)備。
我們有很多反匯編結(jié)果。
*根據(jù)處理量和臭氧濃度選擇型號。
這是一種利用低壓水銀燈發(fā)出的真空紫外線（184.9 nm）將氧氣（O2）臭氧化的裝置。
由于它不產(chǎn)生氮氧化物，所以很容易產(chǎn)生干凈的臭氧，不會造成光化學(xué)煙霧或?qū)θ梭w喉嚨和氣管產(chǎn)生不利影響的空氣污染。
臭氧發(fā)生量：0.1～2.0g/h
體積小、結(jié)構(gòu)緊湊。
低功耗和低維護成本。